TF1010 Tek Duvarlı Karbon Nanotüp Tozu

TF1010 is an electronic-grade ultra-high-purity single-walled carbon nanotube powder prepared by Shandong Tanfeng using super-growth CVD coupled with multi-stage high-temperature deep purification and targeted catalytic impurity removal processes. It is the highest-purity model in the entire single-walled product line, forming a clear gradient distinction from the TF1000 basic single-walled type. The tube diameter is precisely controlled within a narrow distribution range of 1.5–1.7 nm, the pristine carbon tube length is >100 μm, the Raman G/D ratio is >50 ve tüp duvarındaki amorf karbon kusurları son derece düşüktür. Temel farklılaştırılmış gösterge: tek duvarlı karbon tüplerin etkin saflığı %98,5'e eşit veya daha büyüktür; TF1000'in %80 saflığından önemli ölçüde yüksektir. Metal külü, yüz ppm seviyesine kadar gradyanla kontrol edilir, katalizör artık yabancı maddeleri büyük ölçüde azaltılır, temel olarak yarı iletken cihaz sızıntısı, pil tarafı reaksiyonları ve algılama sinyali kayması sorunları önlenir.

Tek katmanlı grafenin kesintisiz boru şeklindeki yapısı, balistik elektron iletimini, ultra yüksek esnekliği ve ultra geniş spesifik yüzey alanını (500–1000 m²/g) birleştirir. Süzme ekleme miktarı, 7 nm ve altındaki gelişmiş proses ince film transistörleri, esnek mantık devreleri, yüksek saflıkta silikon-karbon anotları, askeri ve havacılık hafif koruma, ultra yüksek hassasiyetli iz biyosensörleri ve diğer yüksek hassasiyetli sıkı senaryolar için uygun, tam alanlı bir iletken ağ oluşturmak için %0,03 kadar düşük olabilir.

Fabrika, yüksek çözünürlüklü TEM, Raman spektroskopisi, TGA termogravimetrisi ve ICP-OES dahil olmak üzere tam bir yüksek saflıktaki malzemeye özel test ekipmanlarıyla donatılmıştır. Her partiye tek duvar içeriği, metal safsızlıkları, boru çapı ve uzunluğu hakkında tam bir özel test raporları seti sunulur. Araştırma enstitülerine, yarı iletken işletmelere ve önde gelen katı hal pil üreticilerine yalnızca gram düzeyinde yüksek saflıkta numuneler ve kilogram düzeyinde pilot seriler sağlanır. Amino ve karboksil gruplarına sahip yüksek saflıkta modifiye tozlar, su/organik solvent dispersiyonuna uyum sağlayacak şekilde özelleştirilebilir. Tam bir RoHS, REACH, yüksek saflıktaki ICP safsızlık özel raporları ve MSDS güvenlik veri sayfaları seti, askeri ve yarı iletken ithalat ve ihracatına yönelik katı malzeme kabul denetim standartlarını karşılayan eksiksiz bir settir.

Ambalaj:Alüminyum folyo vakum torbaları, PE kompozit torbalar, tonluk torbalar, özelleştirilebilir

2022 yılında şirket "Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd."'yi kurmak için 50 milyon RMB yatırım yaptı. Shandong Eyaleti, Heze'de 4.000 metrekarelik inşaat alanına sahip. Artık ondan fazla bağımsız patente sahip ulusal bir yüksek teknoloji kuruluşudur.

İkinci faz üretim ve Ar-Ge merkezinin 2027 yılında inşa edilmesi planlanıyor. Şirket, ISO9001 uluslararası kalite sistem sertifikasını almış ve tüm operasyon, Ar-Ge, pilot üretim ve imalat sürecini kapsayan gelişmiş bir nanomalzeme üretim ve teknik servis merkezi oluşturmuştur. Şu anda karbon nanotüp tozu, karbon nanotüp bulamacı, karbon nanotüp masterbatch, karbon nanotüp elyafı ve karbon nanotüp filmi için komple üretim hatlarına sahiptir.

Profesyonel test ve sertifikasyonumuz var. Gerçekten nano ölçekli karbon nanotüpler için Tanfeng Teknolojisi, SEM görüntüleri, AFM görüntüleri, HRTEM görüntüleri, Raman spektroskopisi ve X-ışını toz kırınım desenleri gibi çeşitli modeller için karakterizasyon verileri sağlar.

Tek duvarlı saflık %98,5'e eşit veya daha büyük, son derece düşük safsızlık ve çeşitli tüp içeriği, yarı iletken cihaz açma/kapama oranı gereksinimlerine uyum sağlama

TF1000'in yalnızca %80'lik tek duvarlı saflığıyla karşılaştırıldığında TF1010, çok aşamalı saflaştırma yoluyla çok duvarlı karbon tüplerini ve amorf karbon parçacıklarını giderir; çeşitli faz safsızlıkları %1,5'ten daha azdır. İnce film alan etkili transistörlerde kullanıldığında, cihazın açma/kapama oranı 10 kattan fazla artar, metalik çeşitli tüplerin neden olduğu sızıntı veya sinyal bozulması olmaz, 7 nm ve altı gelişmiş karbon bazlı entegre devrelerin araştırma ve geliştirmesine uyum sağlanır.

Eser miktarda metal iyonu göçünün başarısızlık problemini tamamen çözen, üç dereceli ultra düşük metal külü mevcuttur

Üç kül özelliği sağlar:<100 ppm / <500 ppm / <2000 ppm. Military and semiconductor chips can choose the ultra-pure grade within 100 ppm. Eliminates catalyst metal residue precipitating during device energization, avoiding wafer short circuits, continuous solid-state battery side reactions, and sensor baseline drift.

1.5–1.7 nm narrow tube diameter distribution + >100 μm ultra uzun bozulmamış tüpler, ışık iletimini engellemeden son derece düşük dolum

On bin seviyeli ultra yüksek en-boy oranı, %0,03 kadar düşük iletken ilave miktarı, aynı iletken etki için TF1000'e kıyasla dolgu dozajı %30 daha azaltılmıştır. Tüp çapı görünür ışık dalga boyundan çok daha küçüktür, buğusuz ve yüksek geçirgenliğe sahip şeffaf iletken filmler hazırlar, katlanabilir ekranların ve fotovoltaik şeffaf elektrotların seri üretimine uyum sağlar.

Ultra-high crystallinity G/D >50, son derece az sayıda tüp duvarı yapısal kusuru, elektrokimyasal döngü stabilitesi maksimuma çıkarıldı

Düşük kusurlu grafen tüp duvarları, elektrolit arayüzü yan reaksiyonlarını azaltır. Silikon-karbon anotlarda ve katı hal pillerde kullanıldıklarında, uzun menzilli üst düzey binek araç güç pillerine uyum sağlayan TF1000 temel tek duvarlı pillere kıyasla hücre döngüsü ömrü %35'ten fazla artırılarak sürekli SEI film kalınlaşmasını büyük ölçüde bastırabilirler.

Düşük güçlü esnek çipler için yarı iletken tek duvarlı karbon tüpleri ve çekirdek alt katmanını yönlü olarak ayırabilir

Yüksek saflıkta, bozulmamış tek duvarlı hammaddeler, sonraki yoğunluk gradyanlı santrifüj ayırmayı kolaylaştırır, yüksek taşıyıcı mobilitesine ve son derece düşük cihaz güç tüketimine sahip yüksek oranda yarı iletken tek duvarlı karbon nanotüpler üretir ve bunları yeni nesil esnek düşük güçlü mantık devreleri ve mikro algılama çipleri için temel hammadde haline getirir.

500–1000 m²/g ultra geniş spesifik yüzey alanı, eser moleküllerin ultra yüksek hassasiyette yakalanması

Gazlar, biyolojik proteinler ve TF1000'i çok aşan eser miktardaki ağır metal molekülleri için adsorpsiyon ve tanıma kapasitesine sahip, tıbbi teşhis biyosensörlerine ve çevresel eser miktarda kirletici hassas tespit problarına uyum sağlayan devasa elektrokimyasal aktif bölgeler.

Askeri ve havacılıkla ilgili tam uyumlu, yüksek saflıkta sistem, hafif iletken ve termal olarak iletken entegre yapısal takviye

Düşük safsızlık oranına sahip, çökelmeyen formülasyonlar, havacılık ve askeri elektronik bileşenlerin kabul standartlarını karşılar. Son derece düşük dolum, uydu ve uçak bileşenlerinin kendi ağırlığını büyük ölçüde azaltarak kalıcı iletkenlik, elektromanyetik koruma ve yapısal güçlendirmenin üçlü etkilerini elde edebilir.

1. Gelişmiş Proses Karbon Bazlı Yarı İletkenler, İnce Film Alan Etkili Transistörler

7 nm ve altı proses entegre devreleri, esnek mantık çipleri, mikro düşük güçlü algılama devreleri; ultra yüksek tek duvarlı saflık, yüksek transistör açma/kapama oranı ve düşük sızıntı sağlar ve Moore sonrası mikro-nano elektronik Ar-Ge'sinde geleneksel silikon bazlı malzemelerin yerini alır.

2. Askeri/Havacılık Ultra Yüksek Saflıkta Hafif İletken Koruyucu Kompozit Malzemeler

Uydu hafif elektromanyetik koruyucu muhafazalar, uçak ısı dağıtımı ve iletken entegre paneller, askeri enerji depolama cihazı elektrotları; düşük metal safsızlıkları, askeri bileşenlerin uzun vadeli yörüngede istikrarlı çalışma standartlarını karşılar.

3. İleri Teknoloji Silikon-Karbon Anotlar, Sülfür Tamamen Katı Hal Güç Pilleri

Üst düzey tüketici elektroniği ve uzun menzilli binek araç güç aküleri için silikon-karbon anotlara özel iletken katkı maddeleri; ultra düşük safsızlıklar hücrenin kendi kendine deşarjını bastırır, ultra uzun karbon tüpler silikon parçacık hacminin genişlemesini tamponlayarak döngü ömrünü büyük ölçüde uzatır.

4. Yüksek Geçirgenliğe Sahip Esnek Şeffaf İletken Filmler, Katlanabilir OLED Ekran Panelleri

Az bulunan ITO indiyum kalay oksidin değiştirilmesi, bulanık olmayan yüksek geçirgenliğe sahip iletken filmler hazırlanması, katlanabilir dokunmatik ekranlara, giyilebilir tıbbi EKG elektrotlarına ve fotovoltaik hücreli şeffaf akım toplayıcılara uyum sağlanması, bin bükülmeden sonra %3'ün altında direnç zayıflaması.

5. Ultra Yüksek Hassasiyetli Biyolojik ve Çevresel İz Sensörleri

Tıbbi protein algılama sensörleri, atmosferik eser miktarda toksik gaz tespiti, su izi ağır metal izleme probları; Ultra geniş spesifik yüzey alanı, temel tek duvarlı TF1000'e göre üstün algılama hassasiyeti ile ppb seviyesinde iz moleküllerinin tanınmasını sağlar.

6. Üniversite Sınırı Ultra Yüksek Saflıkta Nanomateryal Araştırma Projeleri

Yarı iletken tek duvarlı kiralite ayırma, gelişmiş karbon bazlı çip mekanizmaları, katı hal pil uzun döngü mekanizmaları ve havacılık hafif kompozit malzemeleri gibi yüksek hassasiyetli laboratuvar Ar-Ge'sine adanmış yüksek saflıkta numuneler.

S1: TF1010 ultra yüksek saflıkta tek duvarlı ve TF1000 temel tek duvarlı arasındaki çekirdek seçim farkları nelerdir ve yarı iletken çipler nasıl seçilmelidir?

C: TF1000 tek duvarlı saflık yalnızca %80'den büyük veya eşittir; silikon-karbon anotlar, sıradan esnek iletken filmler ve geleneksel laboratuvar temel AR-GE'si için uygundur; TF1010 tek duvarlı saflık %98,5'e eşit veya daha büyüktür; metal külü 100 ppm kadar düşüktür ve özellikle yarı iletken entegre devreler, askeri ve havacılık, ultra yüksek hassasiyetli biyoalgılama, üst düzey katı hal pilleri ve yabancı maddelere karşı sıfır toleranslı diğer senaryolar için son derece az çeşitli tüpler ve amorf karbon yabancı maddeleri içerir; cihazın yüksek stabilitesi, düşük sızıntısı ve uzun çevrimleri için TF1010 seçilmelidir.

S2: TF1010'un üç kül spesifikasyonu sırasıyla hangi senaryolara uyarlanıyor?

A: <100 ppm (military/semiconductor chip highest grade), <500 ppm (high-end solid-state batteries, medical sensors), <2000 ppm (high-end silicon-carbon anodes, commercial flexible screens), freely selectable according to downstream product impurity admission standards.

S3: TF1010 tek duvar saflığı %98,5, transistör açma/kapama oranında ne kadar iyileşme sağlıyor?

C: TF1000 büyük miktarlarda çok duvarlı muhtelif tüpler içerdiğinden, transistör açma/kapama oranı yalnızca 10³–10⁴'dir; TF1010 son derece az sayıda çeşitli faz safsızlığına sahiptir ve ayırma sonrasında yarı iletken karbon tüp cihazının açma/kapama oranı 10⁷'nin üzerine çıkarak gelişmiş proses çiplerinin performans gereksinimlerini karşılayabilir.

S4: TF1010 katı hal pillerde kullanıldığında, TF1000'e kıyasla hücrenin kendi kendine deşarjı ne kadar azaltılabilir?

C: TF1010 metal katalitik safsızlıkları büyük ölçüde azaltılır, katı hal hücre oda sıcaklığında depolamanın 30 günlük kapasite zayıflaması %40 azalır ve çevrim ömrü %35 artırılarak otomobil üreticileri için uzun menzilli katı hal pillerinin seri üretimine uyarlanır.

S5: TF1010 tozunun dağılması zor mudur ve bulamaçları destekleyen yarı iletken litografiye uyum sağlayabilir mi?

C: Amino yüksek saflıkta modifiye edilmiş TF1010 tozu, levhaları kirleten hiçbir metal çökelmesi olmadan, litografiye özel düşük safsızlık oranına sahip organik solvent dispersiyonuna uyum sağlayarak özelleştirilebilir; Şirketimiz düşük kesmeli, yüksek saflıkta dispersiyon prosesi çözümleri sağlayabilir.

S6: İhracat askeri ve yarı iletken projeleri için TF1010, özel yüksek saflıkta metal safsızlık testi raporları yayınlayabilir mi?

C: Her parti, çeşitli katalizör metallerinin kalıntı içeriğini tam olarak etiketleyen bağımsız bir ICP-OES yüksek saflıkta kül test sayfasıyla birlikte sağlanır. Askeri ve yarı iletken ithalat ve ihracat malzemelerine yönelik üçüncü taraf denetimlerini karşılayan tam bir RoHS, REACH ve MSDS belgeleri seti tamamlandı.

S7: Şeffaf iletken filmlerin hazırlanmasında TF1010 hangi geçirgenliği sağlayabilir? Bulanıklık sorunları var mı?

A: Film geçirgenliği %90'a eşit veya daha büyük, puslu<1%, far superior to TF1000 basic single-walled, with no film surface graying or uneven transmittance caused by miscellaneous tubes, adapting to mass production of high-end foldable display panels.

Popüler Etiketler: tf1010 tek duvarlı karbon nanotüp tozu, Çin tf1010 tek duvarlı karbon nanotüp tozu üreticileri, tedarikçiler, fabrika, Karbon Nanotüp Güneş Paneli, Karbon Nanotüpler ve Fullerenes, sarmal karbon nanotüpleri, Tek duvar nanotüp, Tek Duvarlı Karbon Nanotüpler SWCNT'ler, Tek duvarlı karbon nanotüpler kullanır